بررسي عوامل موثر بر خواص پوشش الكترولس مس روي زيرلايه سراميكي

كارشناسي ارشد

در اين تحقيق ابتدا به معرفي روش آبكاري الكترولس و تاريخچه‌ي آن پرداخته مي‌شود. سپس به طور خاص به توضيح رسوب الكترلس مس پرداخته مي‌شود و انواع عوامل كاهنده‌ي مورد استفاده در اين روش شرح داده خواهد شد. سپس به طور جزئي‌تر به لايه‌نشاني مس با روش آبكاري الكترولس و بررسي عوامل موثر بر آن پرداخته خواهد شد. پوشش‌هاي ايجاد شده به روش الكترولس تحت تاثير عوامل مختلفي از جمله پيش‌درماني پوشش، شرايط كاري لايه‌نشاني كه شامل دما، زمان و pH حمام مي‌شود، تركيبات حمام لايه‌نشاني شامل غلظت نمك فلزي، غلظت عامل احياكننده و ساير عوامل افزودني حمام است. در اين اثر با بررسي تمامي متغيرهاي تاثيرگذار بر لايه‌هاي مس ايجاد شده به روش الكترولس بر روي زيرلايه‌هاي شيشه مي توان به نوعي به شرايط لايه‌نشاني بهينه جهت ايجاد پوششي تقريبا متراكم و يكنواخت دست يافت. در اين تحقيق از روش الكترولس دو مرحله‌اي براي لايه‌نشاني استفاده شده است. در مرحله‌ي اول تمامي متغيرها براي تمامي نمونه‌ها ثابت هستند و در مرحله‌ي دوم تمام پارامترها تغيير مي‌كنند. هم‌چنين بعد از دست‌يابي به شرايط بهينه‌ي تركيب حمام و شرايط كاري حمام، تاثير اچ زيرلايه بر كيفيت پوشش نيز مورد بررسي قرار گرفته است تا بتوان روشي بهينه براي دست‌يابي به پوششي با خواص مطلوب معرفي نمود. با توجه به شرايط حمام بهينه و زمان اچ مطلوب، نمونه‌ي ايجاد شده در اين شرايط مقاومت cm. Ωμ 9/2 را نشان داد كه اين مقدار، مقدار قابل قبولي مي‌باشد. با بررسي طيف الگوي XRD زيرلايه‌ي شيشه‌ي اچ شده به مدت 14 دقيقه كه لايه‌ي مس به روش الكترولس در شرايط حمام بهينه روي آن ايجاد شده است، مي‌توان مشاهده نمود كه سه پيك در زواياي θ2 به ترتيب 4/43، 55/50 و 2/74 درجه وجود دارند.

196432

دانشگاه علم و صنعت ايران

مهندسي مواد و متالوژي گرايش انتخاب و شناسايي مواد مهندسي

دكتر حسين سرپولكي-دكتر سعيد رستگاري