عنوان
اثر داپ كردن تنگستن و تزئين با اكسيد روي¬ بر خواص فوتوالكتروكاتاليستي پوشش اكسيد تيتانيوم توليد شده به روش اكسيداسيون الكتروليتي پلاسمائي
نويسنده اصلي
فريدي دستجردي، مهسا
محل تحصيل
اصفهان : دانشگاه صنعتي اصفهان
رشته تحصيلي
مهندسي مواد
مقطع تحصيلي
كارشناسي ارشد
چكيده
در اين پژوهش، پوشش اكسيد تيتانيوم (TiO2) داپ شده با تنگستن به روش اكسيداسيون الكتروليتي پلاسمائي (PEO) توليد و سپس به روش غوطه¬وري در سل اتانولي استات روي توسط اكسيد روي تزئين و عمليات حرارتي شد. ابتدا تركيب شيميايي پوشش از طريق داپ تنگستن بهينه شد. در مرحله بعد، پارامتر¬هاي مهم تزئين به روش سل¬ژل شامل غلظت محلول، زمان غوطه¬وري و دماي عمليات حرارتي بهينه شدند. پوشش¬هاي حاصل توسط مشاهدات ميكروسكوپي الكتروني روبشي، طيف سنجي توزيع انرژي، پراش پرتو ايكس، طيف¬سنجي مادون قرمز بازتاب كلي تضعيف شده و آناليز طيف¬سنجي بازتابي مشخصه يابي شدند. همچنين جهت بررسي خاصيت فوتوالكتروكاتاليستي، راندمان تخريب متيلن بلو توسط پوشش ها به مدت 3 ساعت به روش اسپكتروفتومتري مايع بدست آمد. نتايج نشان داد كه پوشش دوپ شده با تنگستن حاصل از 5 دقيقه پوشش دهي PEO كه با 3 دقيقه غوطه وري در سل 5/0 مولار و عمليات حرارتي در C400 توسط اكسيد روي تزئين شده بود، داراي بيشترين راندمان تخريب بود. نتايج نشان داد كه تزئين با ZnO منجر به افزايش شكاف باند TiO2 به eV 3 شد كه كاهش عملكرد فوتوكاتاليستي پوشش از 4/53 به 1/43 % را به همراه داشت. ليكن، راندمان تخريب الكتروكاتاليستي پوشش از 6/8 به 62 % افزايش يافت. در اين راستا، تخريب فوتوالكتروكاتاليستي پوشش با تزئين ZnO از 7/29 به 4/84 % ارتقاء يافت. به منظور ارزيابي رفتار فوتوالكتروشيميايي پوشش بهينه، از آزمون¬هاي پتانسيل مدار باز، اندازه¬گيري پتانسيواستاتيك جريان نوري، طيف سنجي امپدانس الكتروشيميايي و ولتامتري چرخه¬اي در شرايط تاريك و تحت تابش لامپ زنون استفاده شد. نتايج نشان دادند كه فرايند الكتروكاتاليستي با توليد وسيع راديكال¬هاي آزاد و همچنين افزايش عمر حامل¬هاي بار تحريك شده با نور بر افزايش شكاف باند نيمه¬هادي و متعاقباً كاهش جذب نور حاصل از تزئين پوشش با ZnO غلبه مي¬كند و لذا افزايش راندمان تخريب را در پي دارد. بر اساس نتايج، تخريب محلول حاوي رنگدانه تحت كنترل نفوذ واربورگ است و لايه خارجي پوشش PEO در واكنش¬هاي فوتوكاتاليستي شركت مي¬كند درحاليكه لايه داخلي آن، جائيكه ايجاد گسترده اتصال ناهمگون n-n بين TiO2 و ZnO رخ داده است، در واكنش¬هاي الكتروكاتاليستي مشاركت دارد. شايان ذكر است كه خاصيت تكرارپذيري پوشش تزئين شده تا شش سيكل در فرايند تخريب رنگدانه مورد ارزيابي قرار گرفت. نتايج نشان دهنده كاهش 5/22 % راندمان تخريب بود. اگرچه خاصيت فوتوكاتاليستي نمونه پس از تزئين TiO2 با ZnO كاهش يافت، اما اين خاصيت در جلوگيري از افت عملكرد فوتوالكتروكاتاليستي مؤثر بوده است.
شماره ركورد
232170
گرايش رشته تحصيلي
خوردگي و حفاظت از مواد
دانشكده
مهندسي مواد
دانشگاه
دانشگاه صنعتي اصفهان